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电子半导体废水怎么处理|电子半导体废水如何处理

该晶圆制作厂坐落在苏北位置,基本生产方式销售89英寸半导体设备晶圆,日访问量废气污染物量约800吨。基于生产方式销售历程中运用过多氢佛酸来进行晶圆蚀刻,引致废气中氟化物盐浓度到达200-300mg/L,远超的国家污染物细则(10mg/L一些)。 废液因素及来源地 生活污水基本原于六个关键点: 晶圆蚀刻流程 :含高氧化还原电位氟化物(HF)、氰化钠及一些天价属 化学上机制拋光(CMP)废水处理方法 :含纳米级级硅颗粒肥料、有机肥料络合剂 设配除垢生活污水 :含异丙醇、氧化还原电位等设计物 处里加工制作工艺 步奏 利用"检查是否悠长岁月中出的+沥青混凝土悠长岁月中出的+程度过滤清洁"三级分销进行处理软件系统: 1阶段加工 :添加氯化钙和氢脱色钙,生成氟化钙发展,氟化物的还原率达85% 二次元净化处理 :插入PAC(整合氯化铝)和PAM(PP酰胺),弄掉悬浊液态的挥发性有机物 三级考试净化处理 :依据多有机溶剂灵活性炭过滤器管道过滤器和灵活性炭过滤器物理吸附,留水氟化物盐浓度安全稳定在8mg/L以上 重要性设施设备有:pH手动调试控制系统、斜管沉积池、板框隔膜压滤机(淤泥脱水过滤)。 不可能疗效 的项目电脑运行六年监测站的数据表明: 氟化物平均的渗透压:7.2mg/L(达不到国度标淮) COD除掉率:92% 活性污泥水分含量率:≤65% 年环保再生产品回收氟化钙副设备约150吨,进行产品化利用率

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